Samsung e ASML annunciano un ampliamento della collaborazione strategica sulla litografia High NA EUV e sulle tecnologie di produzione avanzata.

La collaborazione punta a spostare infrastrutture e standard della litografia verso maschere piu grandi e processi utili alla memoria avanzata.

Il settore dovra seguire sviluppo, standardizzazione e disponibilita delle tecnologie High NA EUV e delle fotomaschere.